An apparatus with embedded fine line space in a cavity, and a method for forming the same

WO2018044326 Art A1 8. März 2018

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018044326
Aktenzeichen
EP16915399
Anmeldetag
2. September 2016
Veröffentlichung
8. März 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H05K3/46H05K3/34H05K1/18H05K3/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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