Model based optical measurements of semiconductor structures with anisotropic dielectric permittivity
WO2018044572
Art A1
8. März 2018
Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018044572
- Aktenzeichen
- EP17847208
- Anmeldetag
- 16. August 2017
- Veröffentlichung
- 8. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kla-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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