Laser device and laser anneal device
WO2018047220
Art A1
15. März 2018
Anmelder: Gigaphoton Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018047220
- Aktenzeichen
- EP16915640
- Anmeldetag
- 6. September 2016
- Veröffentlichung
- 15. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/268
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Gigaphoton Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Gigaphoton
Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.
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