Electron source and electron beam irradiation device

WO2018047228 Art A1 15. März 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018047228
Aktenzeichen: EP16915648
Anmeldetag: 6. September 2016
Veröffentlichung: 15. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/06H01J1/30H01J1/304H01J37/073

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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