Gas spraying apparatus for substrate processing apparatus and substrate processing apparatus

WO2018048125 Art A1 15. März 2018

Anmelder: Jusung Engineering Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018048125
Aktenzeichen: EP17849009
Anmeldetag: 24. August 2017
Veröffentlichung: 15. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/687H05H1/46H01L21/683H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Jusung Engineering Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Jusung Engineering

Jusung Engineering ist ein südkoreanischer Hersteller von Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleitertechnik, ergänzt durch Metallurgie und Elektronik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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