Semiconductor storage device and method for manufacturing same

WO2018051872 Art A1 22. März 2018

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018051872
Aktenzeichen
EP17850775
Anmeldetag
7. September 2017
Veröffentlichung
22. März 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L27/11582H01L21/336H01L29/788H01L29/792
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Kabushiki Kaisha Toshiba
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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