Composition for forming resist lower-layer film, resist lower-layer film and method for forming same, and method for manufacturing patterned substrate

WO2018051930 Art A1 22. März 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018051930
Aktenzeichen: EP17850832
Anmeldetag: 8. September 2017
Veröffentlichung: 22. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07D265/12C07D265/14C07D413/14G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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