Pattern forming method and method for producing semiconductor element

WO2018051961 Art A1 22. März 2018

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018051961
Aktenzeichen: EP17850863
Anmeldetag: 12. September 2017
Veröffentlichung: 22. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B29C59/02C09D5/00C09D201/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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