Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method

WO2018052026 Art A1 22. März 2018

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018052026
Aktenzeichen: EP17850927
Anmeldetag: 13. September 2017
Veröffentlichung: 22. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/21C07D311/78C08G8/20G03F7/004G03F7/027G03F7/11G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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