Electron microscope device and inclined hole measurement method using same

WO2018052083 Art A1 22. März 2018

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018052083
Aktenzeichen
EP17850984
Anmeldetag
14. September 2017
Veröffentlichung
22. März 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/244H01J37/147H01J37/22H01J37/28H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Hitachi High-Technologies Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen