Semiconductor film production method, semiconductor film, doping complex compound, and doping method

WO2018052097 Art A1 22. März 2018

Anmelder: Flosfia Inc., Kyoto University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018052097
Aktenzeichen: EP17850997
Anmeldetag: 14. September 2017
Veröffentlichung: 22. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/365C23C16/40H01L21/336H01L21/337H01L21/338H01L21/368H01L29/12H01L29/739H01L29/778H01L29/78H01L29/786H01L29/808H01L29/812H01L29/872H01L33/26

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firmen: Flosfia Inc.
Kyoto University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kyoto University

Renommierte japanische Universität mit breiter Grundlagenforschung in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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