Systems and methods for optimizing focus for imaging-based overlay metrology
WO2018053192
Art A1
22. März 2018
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018053192
- Aktenzeichen
- EP17851561
- Anmeldetag
- 14. September 2017
- Veröffentlichung
- 22. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B9/02G01B11/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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