Plasma power supply device, plasma device, and plasma generation method
WO2018055776
Art A1
29. März 2018
Anmelder: Fuji Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018055776
- Aktenzeichen
- EP16916842
- Anmeldetag
- 26. September 2016
- Veröffentlichung
- 29. März 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fuji Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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