Mask blank, phase shift mask, method for manufacturing phase shift mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2018056033 Art A1 29. März 2018

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018056033
Aktenzeichen: EP17852812
Anmeldetag: 4. September 2017
Veröffentlichung: 29. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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