Resist composition, pattern forming method and method for manufacturing electronic device

WO2018056369 Art A1 29. März 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018056369
Aktenzeichen: EP17853137
Anmeldetag: 21. September 2017
Veröffentlichung: 29. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/14G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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