N-type sic single crystal substrate, method for producing same and sic epitaxial wafer

WO2018056438 Art A1 29. März 2018

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018056438
Aktenzeichen: EP17853205
Anmeldetag: 25. September 2017
Veröffentlichung: 29. März 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/36C30B23/06H01L21/203

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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