Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung eines Halbleiterbauelementes mit Zumindest einer Halbleiterschicht
WO2018060181
Art A1
5. April 2018
Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018060181
- Aktenzeichen
- EP17778244
- Anmeldetag
- 26. September 2017
- Veröffentlichung
- 5. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L31/0224
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Fraunhofer-Gesellschaft
Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.
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