Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung eines Halbleiterbauelementes mit Zumindest einer Halbleiterschicht

WO2018060181 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018060181
Aktenzeichen
EP17778244
Anmeldetag
26. September 2017
Veröffentlichung
5. April 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L31/0224
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

10.123 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen