Vacuum valve contact material, production method and vacuum valve

WO2018061269 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018061269
Aktenzeichen: EP17855228
Anmeldetag: 6. April 2017
Veröffentlichung: 5. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01H1/025H01H11/04H01H33/662H01H33/664C22C9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Toshiba
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.649 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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