Cleaning composition, cleaning method, and method for manufacturing semiconductor

WO2018062053 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018062053
Aktenzeichen
EP17856006
Anmeldetag
22. September 2017
Veröffentlichung
5. April 2018
Rechtsraum
WO
IPC
C11D3/37C11D1/12C11D1/62H01L21/027H01L21/304H01L21/306
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

932 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.254 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen