Cleaning composition, cleaning method, and method for manufacturing semiconductor

WO2018062053 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018062053
Aktenzeichen: EP17856006
Anmeldetag: 22. September 2017
Veröffentlichung: 5. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C11D3/37C11D1/12C11D1/62H01L21/027H01L21/304H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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