Pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and kit

WO2018062471 Art A1 5. April 2018

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018062471
Aktenzeichen: EP17856420
Anmeldetag: 29. September 2017
Veröffentlichung: 5. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/038G03F7/039G03F7/16H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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