Method of integration of ono stack formation into thick gate oxide cmos flow

WO2018063459 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Cypress Semiconductor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018063459
Aktenzeichen: EP17856950
Anmeldetag: 19. Juni 2017
Veröffentlichung: 5. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/28H01L21/762H01L27/115

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cypress Semiconductor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cypress Semiconductor

Cypress Semiconductor war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der 2020 von Infineon Technologies übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiter und Nachrichtentechnik, ergänzt durch Datenspeicherung. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2024.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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