In-Situ Cleaning Using Hydrogen Peroxide As Co-Gas To Primary Dopant Or Purge Gas For Minimizing Carbon Deposits in an Ion Source

WO2018064157 Art A1 5. April 2018

Anmelder: Axcelis Technologies Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018064157
Aktenzeichen: EP17781310
Anmeldetag: 27. September 2017
Veröffentlichung: 5. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Axcelis Technologies Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

377 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von