Gas phase etching apparatus and gas phase etching equipment
WO2018064983
Art A1
12. April 2018
Anmelder: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018064983
- Aktenzeichen
- EP17857864
- Anmeldetag
- 9. Oktober 2017
- Veröffentlichung
- 12. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Beijing Naura Microelectronics Equipment Co., Ltd.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing NAURA Microelectronics Equipment
Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.
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