Electron beam transport system
WO2018065195
Art A1
12. April 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018065195
- Aktenzeichen
- EP17778209
- Anmeldetag
- 18. September 2017
- Veröffentlichung
- 12. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H7/06H05H7/00H05H9/00G01T1/29
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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