Charged particle beam device, electron beam generation device, x-ray source, x-ray device, and method for manufacturing structure

WO2018066135 Art A1 12. April 2018

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018066135
Aktenzeichen: EP16918331
Anmeldetag: 7. Oktober 2016
Veröffentlichung: 12. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01J35/14G01N23/04H01J35/16H05G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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