Semiconductor element substrate, etching method, and etching solution

WO2018066289 Art A1 12. April 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018066289
Aktenzeichen: EP17858128
Anmeldetag: 4. September 2017
Veröffentlichung: 12. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/308H01L21/20H01L21/306H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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