Hot extruded material for cylindrical sputtering target and method for manufacturing cylindrical sputtering target
WO2018066410
Art A1
12. April 2018
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018066410
- Aktenzeichen
- EP17858249
- Anmeldetag
- 26. September 2017
- Veröffentlichung
- 12. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C9/00C22C9/02C22C9/06C22C9/08C22F1/08C22F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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