Hot extruded material for cylindrical sputtering target and method for manufacturing cylindrical sputtering target

WO2018066410 Art A1 12. April 2018

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018066410
Aktenzeichen
EP17858249
Anmeldetag
26. September 2017
Veröffentlichung
12. April 2018
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34C22C9/00C22C9/02C22C9/06C22C9/08C22F1/08C22F1/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Materials Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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