Resist composition, method for forming resist pattern, polymer compound, and copolymer

WO2018066606 Art A1 12. April 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018066606
Aktenzeichen
EP17858443
Anmeldetag
4. Oktober 2017
Veröffentlichung
12. April 2018
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/038C08F20/26G03F7/039G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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