Pattern formation method and composition

WO2018066716 Art A1 12. April 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018066716
Aktenzeichen: EP17858552
Anmeldetag: 10. Oktober 2017
Veröffentlichung: 12. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40C08F297/02C08L101/02G03F7/038G03F7/039G03F7/11G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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