Selecting a set of locations associated with a measurement or feature on a substrate
WO2018069015
Art A1
19. April 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018069015
- Aktenzeichen
- EP17771751
- Anmeldetag
- 21. September 2017
- Veröffentlichung
- 19. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F9/02G03F7/207G03F9/00G03F7/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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