Method of inspecting a substrate, metrology apparatus, and lithographic system

WO2018069052 Art A1 19. April 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018069052
Aktenzeichen: EP17777035
Anmeldetag: 28. September 2017
Veröffentlichung: 19. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B9/02G01N21/95G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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