Radiation-sensitive resin composition and resist-pattern forming method

WO2018070327 Art A1 19. April 2018

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018070327
Aktenzeichen: EP17859861
Anmeldetag: 4. Oktober 2017
Veröffentlichung: 19. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/00C09K3/00G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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