Photosensitive element, semiconductor device, and resist pattern formation method

WO2018070489 Art A1 19. April 2018

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018070489
Aktenzeichen: EP17859941
Anmeldetag: 12. Oktober 2017
Veröffentlichung: 19. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027G03F7/032G03F7/038G03F7/075G03F7/09G03F7/11G03F7/20H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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