A processing apparatus and a method for correcting a parameter variation across a substrate

WO2018072961 Art A1 26. April 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018072961
Aktenzeichen: EP17768153
Anmeldetag: 21. September 2017
Veröffentlichung: 26. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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