Beschichtungsvorrichtung mit in Schwerkraftrichtung unter dem Substrat Angeordnetem Gaseinlassorgan

WO2018073309 Art A1 26. April 2018

Anmelder: Aixtron SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018073309
Aktenzeichen: EP17794682
Anmeldetag: 18. Oktober 2017
Veröffentlichung: 26. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/04C23C14/12C23C14/56C23C16/04C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Aixtron SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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