Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2018074146 Art A1 26. April 2018

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018074146
Aktenzeichen: EP17862344
Anmeldetag: 25. September 2017
Veröffentlichung: 26. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/52B23K1/00B23K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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