Reflective mask blank, reflective mask production method, and semiconductor device production method

WO2018074512 Art A1 26. April 2018

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018074512
Aktenzeichen: EP17862845
Anmeldetag: 18. Oktober 2017
Veröffentlichung: 26. April 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/54G03F1/24G03F1/38G03F1/48G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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