Method for forming cured film, radiation-sensitive resin composition, and display element and sensor provided with cured film
WO2018074539
Art A1
26. April 2018
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018074539
- Aktenzeichen
- EP17863169
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2017
- Veröffentlichung
- 26. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B05D1/36B05D3/10G03F7/039C08F220/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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