Thin-film transistor, production method therefor, and solution for forming gate insulation film for thin-film transistor
WO2018074607
Art A1
26. April 2018
Anmelder: Toppan Printing Co., Ltd., Japan Advanced Institute of Science and Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018074607
- Aktenzeichen
- EP17861360
- Anmeldetag
- 20. Oktober 2017
- Veröffentlichung
- 26. April 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/786H01L21/283H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Toppan Printing Co., Ltd.
Japan Advanced Institute of Science and Technology - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toppan Printing
Japanischer Konzern für Druck- und Verpackungstechnologien mit Sitz in Tokio, seit 1900 tätig. Produziert zudem Displays, Halbleitermasken und Sicherheitsdrucke.
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