Magnetic thin film deposition chamber and thin film deposition device
WO2018077090
Art A1
3. Mai 2018
Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018077090
- Aktenzeichen
- EP17863688
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2017
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01F41/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing NAURA Microelectronics Equipment
Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.
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