Method for optimizing a patterning device pattern

WO2018077787 Art A1 3. Mai 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018077787
Aktenzeichen: EP17790747
Anmeldetag: 23. Oktober 2017
Veröffentlichung: 3. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/70G06F17/50G03F7/20G03F1/00G03F1/36

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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