Silicon-Containing Resist Underlayer Film-Forming Composition Containing Organic Group Having Dihydroxy Group

WO2018079599 Art A1 3. Mai 2018

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018079599
Aktenzeichen: EP17864322
Anmeldetag: 25. Oktober 2017
Veröffentlichung: 3. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G59/68G03F7/20G03F7/26G03F7/42

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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