Semiconductor device inspection apparatus and semiconductor device inspection method

WO2018083904 Art A1 11. Mai 2018

Anmelder: Hamamatsu Photonics K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018083904
Aktenzeichen: EP17867028
Anmeldetag: 20. September 2017
Veröffentlichung: 11. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01R31/302G01R31/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hamamatsu Photonics K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hamamatsu Photonics

Japanisches Unternehmen für Photonik mit Sitz in Hamamatsu, spezialisiert auf Photodetektoren, Bildsensoren, Laser und optische Messtechnik für Wissenschaft und Industrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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