Cleaning solution and method for cleaning substrate

WO2018088202 Art A1 17. Mai 2018

Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018088202
Aktenzeichen
EP17869887
Anmeldetag
24. Oktober 2017
Veröffentlichung
17. Mai 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304C11D7/08C11D7/22C11D7/50C11D17/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

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