X-ray fluorescence analysis atomic layer deposition apparatus and x-ray fluorescence analysis atomic layer deposition method

WO2018088771 Art A1 17. Mai 2018

Anmelder: Korea University Research and Business Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018088771
Aktenzeichen: EP17870120
Anmeldetag: 7. November 2017
Veröffentlichung: 17. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/52G01N23/223

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea University Research and Business Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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