Compensating For A Physical Effect in an Optical System Technical Field

WO2018089177 Art A1 17. Mai 2018

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018089177
Aktenzeichen: EP17869368
Anmeldetag: 17. Oktober 2017
Veröffentlichung: 17. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: G01J1/58G01B9/02G01B7/12G01N21/27

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von