Plasma Light Up Suppression

WO2018089180 Art A1 17. Mai 2018

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018089180
Aktenzeichen: EP17870415
Anmeldetag: 19. Oktober 2017
Veröffentlichung: 17. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H01L21/67H01J37/32H01L21/02H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von