Semiconductor structure having continuous spacers and manufacturing method therefor

WO2018090425 Art A1 24. Mai 2018

Anmelder: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2018090425
Aktenzeichen: EP16921758
Anmeldetag: 21. Dezember 2016
Veröffentlichung: 24. Mai 2018
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/092H01L21/8238

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Institute Of Microelectronics, Chinese Academy Of Sciences
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Institute of Microelectronics, Chinese Academy of Sciences

Chinesisches Forschungsinstitut der Chinese Academy of Sciences mit Schwerpunkt auf Mikroelektronik und Halbleitertechnologie. Patente betreffen Chipdesign und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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