Through-electrode substrate, semiconductor device using through-electrode substrate, and through-electrode substrate manufacturing method

WO2018092480 Art A1 24. Mai 2018

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018092480
Aktenzeichen
EP17872067
Anmeldetag
13. Oktober 2017
Veröffentlichung
24. Mai 2018
Rechtsraum
WO
IPC
H05K1/02H01L23/12H01L23/32H05K1/11H05K3/40H05K3/42
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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