Cleaning compositions for removing post etch residue

WO2018098139 Art A1 31. Mai 2018

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2018098139
Aktenzeichen
EP17812162
Anmeldetag
21. November 2017
Veröffentlichung
31. Mai 2018
Rechtsraum
WO
IPC
C11D7/32C11D3/00C11D7/36C11D11/00G03F7/42
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Entegris, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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