Cleaning compositions for removing post etch residue
WO2018098139
Art A1
31. Mai 2018
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2018098139
- Aktenzeichen
- EP17812162
- Anmeldetag
- 21. November 2017
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2018
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C11D7/32C11D3/00C11D7/36C11D11/00G03F7/42
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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Fachgebiete
Vertreten von
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